(ÁÖ)´õºñ¿£Àº ¡®Àü¹® ¹Ìµð¾î ¹ßÇ࡯, ¡®Àü¹® Àü½Ãȸ ¹× ÄÁÆÛ·±½º °³ÃÖ¡¯, ¡®¿¬±¸¡¤¸®¼Ä¡¡¯ »ç¾÷À» ÁøÇàÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
(ÁÖ)´õºñ¿£Àº ¡°Àü¹®¸Åü ¹ßÇà ¹× Àü¹®Àü½Ãȸ °³ÃÖ¸¦ ÅëÇÑ »ê¾÷À°¼ºÀ¸·Î ±¹°¡ »ê¾÷¹ßÀü¿¡ À̹ÙÁöÇÑ´Ù¡±´Â
¸ðÅ並 °è½ÂÇÏ¿© ½ÇõÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
(ÁÖ)´õºñ¿£Àº »ê¾÷ºÐ¾ßº° Àü¹®¼ºÀ» °®Ãá Ä¿¹Â´ÏƼ¸¦ Çü¼ºÇÏ°í ÀÎÀû ³×Æ®¿öÅ©¸¦ ÅëÇØ Á¤º¸±³·ù¿Í ÀÇ°ß¼ö·ÅÀÇ Åë·Î·Î¼ÀÇ
¿ªÇÒÀ» ºñ·ÔÇÏ¿© °¢ ºÐ¾ßÀÇ ½Ç¼ö¿äÀÚ¿Í °ø±ÞÀÚ °£ÀÇ ¼ÒÅëÀÇ Ã¢±¸¿ªÇÒÀ» ¼öÇàÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
- Media : º¸¾È´º½º, ½ÃÅ¥¸®Æ¼¿ùµå
- Expo & Convention : SECON / eGISEC / PIS FAIR / ISEC
- Publishing : IT, º¸¾È, ¿¡³ÊÁö, °æ¿µ, °æÁ¦, ÀÚ°Ý/¼öÇè, ÀÚ±â°è¹ß µî Àü¹®¼Àû ¹× ´ÜÇົ ÃâÆÇ
- R&D / Research : Á¤Ã¥Á¶»ç, ½ÃÀåÁ¶»ç µî ¿¬±¸/¸®¼Ä¡